- Sections
- C - Chimie; métallurgie
- C23C - Revêtement de matériaux métalliques; revêtement de matériaux avec des matériaux métalliques; traitement de surface de matériaux métalliques par diffusion dans la surface, par conversion chimique ou substitution; revêtement par évaporation sous vide, par pulvérisation cathodique, par implantation d'ions ou par dépôt chimique en phase vapeur, en général
- C23C 16/16 - Revêtement chimique par décomposition de composés gazeux, ne laissant pas de produits de réaction du matériau de la surface dans le revêtement, c. à d. procédés de dépôt chimique en phase vapeur (CVD) caractérisé par le dépôt d'un matériau métallique à partir de métaux carbonyles
Détention brevets de la classe C23C 16/16
Brevets de cette classe: 191
Historique des publications depuis 10 ans
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Propriétaires principaux
Proprétaire |
Total
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Cette classe
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Tokyo Electron Limited | 11599 |
58 |
Tanaka Kikinzoku Kogyo K.K. | 589 |
13 |
Entegris, Inc. | 1736 |
12 |
Applied Materials, Inc. | 16587 |
11 |
Tokyo Electron America, Inc. | 97 |
8 |
International Business Machines Corporation | 60644 |
7 |
Merck Patent GmbH | 5909 |
5 |
Lam Research Corporation | 4775 |
5 |
Adeka Corporation | 1333 |
5 |
Gelest, Inc. | 104 |
4 |
L'Air Liquide, Societe Anonyme pour l'Etude et l'Exploitation des Procedes Georges Claude | 3515 |
4 |
Sigma-Aldrich Co. | 55 |
3 |
Versum Materials US, LLC | 591 |
3 |
Public Joint Stock Company "severstal" | 14 |
3 |
Applied Materials Israel, Ltd. | 549 |
2 |
Taiwan Semiconductor Manufacturing Company, Ltd. | 36809 |
2 |
Carl Zeiss SMT GmbH | 2646 |
2 |
American Air Liquide, Inc. | 223 |
2 |
ASM IP Holding B.V. | 1715 |
2 |
Gelest Technologies, Inc. | 16 |
2 |
Autres propriétaires | 38 |